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Otsuka大塚 分光測量(在線式)掃描膜厚儀
產品簡介:

Otsuka大塚 分光測量(在線式)掃描膜厚儀-成都藤田科技提供
采用線掃描方式檢測整面薄膜 硬件軟件均為創新設計 作為專業膜厚測定廠商,提供多種支援 實現高精度測量實現高速測量 不受偏差影響 可對應寬幅樣...

產品型號:

更新時間:2025-06-07

廠商性質:代理商

訪問量:333

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Otsuka大塚 分光測量(在線式)掃描膜厚儀-成都藤田科技提供

Otsuka大塚 分光測量(在線式)掃描膜厚儀

產品信息

特點

● 采用線掃描方式檢測整面薄膜

● 硬件&軟件均為創新設計

● 作為專業膜厚測定廠商,提供多種支援

● 實現高精度測量(已獲取)

● 實現高速測量

● 不受偏差影響

● 可對應寬幅樣品(TD方向大可測量10m)        

 

Otsuka大塚 分光測量(在線式)掃描膜厚儀

Otsuka大塚 分光測量(在線式)掃描膜厚儀

式樣

在線型離線型
膜厚范圍0.7~300μm*1
測量寬度TD:500mm~大10m x MD1mmTD:250mmxMD1mm
測量間隔10ms ~
設備尺寸81(W)x140(D)x343(H)mm459(H)x609(D)x927(H)mm
重量4kg(僅測量頭)60kg
大功耗AC100V 10% 125VA

※膜厚值n=1.5的換算。由式樣而定

測量案例

500mm寬的包裝薄膜

 
Otsuka大塚 分光測量(在線式)掃描膜厚儀

Otsuka大塚 分光測量(在線式)掃描膜厚儀  

    核心特點:

   微區測量能力:最小光斑直徑3μm,搭配自動XY平臺(200×200mm),實現晶圓、FPD(如OLED、ITO膜)等微小區域的精準厚度分布映射。

   跨行業適用性:專為半導體(SiO?/SiN膜)、顯示面板(彩色光阻)、DLC涂層等行業設計,支持粗糙表面、傾斜結構及復雜光學異向性樣品的分析。

   安全與擴展性:區域傳感器觸發防誤觸機制,獨立測量頭支持定制化嵌入,滿足在線檢測(inline)與實驗室研發需求。

Otsuka大塚 分光測量(在線式)掃描膜厚儀-成都藤田科技提供









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